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晶圓分子束外延所使用的樣品為2-4英寸晶圓。為了保證成膜的均勻性,在生長過程中樣品可連續(xù)旋轉(zhuǎn)。加熱器采用內(nèi)外層分別加熱和控溫,保證良好的均勻性。這種MBE主要用于對樣品尺寸有一定要求的,面向工業(yè)應(yīng)用的生產(chǎn)和研發(fā)。

● 加熱器為內(nèi)外環(huán)加熱,溫度一致性好

● 樣品連續(xù)旋轉(zhuǎn),蒸鍍均勻

● 操作方便,可快速學(xué)會使用

● 可靠性好,能保證長時間穩(wěn)定工作

● 配件、材料選擇考究保證極低的本底真空

△ 可定制功能:

● 腔體結(jié)構(gòu)、傳樣機構(gòu),泵組、真空規(guī)及其品牌型號

● 樣品尺寸

● 樣品操作臺行程

蒸發(fā)源口徑、溫度、加熱方式和數(shù)量

● 快速進樣室進樣和存樣機構(gòu)的樣品數(shù)量

● 可擴展反射式高能電子衍射儀、紅外測溫儀、膜厚儀、氣源等

● 程序控制功能

● 腔體可做無磁處理


晶圓分子束外延系統(tǒng)(Wafer MBE)